Pulsed Heater Micro Reactor

Opdrachtgever

Vakgroep Control Systems, prof. dr. ir. A.C.P.M. Backx, faculteit Electrical Engineering TU/e.
Vakgroep Physical Chemistry of Surfaces in Catalysis, prof. dr. J.W. Niemantsverdriet, faculteit Scheikundige Technologie TU/e.

Omschrijving

Microreactor waarin gassen geïntroduceerd en afgevoerd kunnen worden. Deze microreactor bestaat uit een klein oventje waarin zich een chip met een platina weerstand bevindt. De oven heeft een temperatuurbereik van kamertemperatuur tot ca. 500 C. Door middel van het sturen van stroompulsen door de platina weerstand, kan de temperatuur op het platina oppervlak pulsgewijs verhoogd worden. De temperaturen in de puls kunnen wel 400 tot 500 C boven de steady state temperatuur in de oven liggen. Door middel van pulsfrequentie en/of pulshoogte kan de reactie die boven het platina oppervlak plaatsvindt gestuurd worden.

Specificaties

  • Temperatuurbereik: kamertemperatuur tot ca. 500 C, regelbaar op 1 C
  • Pulsspanning: 1 kV, pulsduur: 70 µs, pulsfrequentie: 100 Hz