Plasma Depositie Zonnecellen

Opdrachtgever

C.D. Bissell Engineering Ltd. (UK)

Omschrijving

De RF-PECVD opstelling bestaat uit een Load Lock en twee Process Chambers. De Process Chambers worden geladen vanuit de Load Lock met behulp van een magneet-stok. De Process Chambers zijn onafhankelijk van elkaar te bedrijven in batch proces. Het plasma wordt opgewekt met een RF bron. Het doel van deze opstelling is om op laboratoriumschaal het fabricage proces en het rendement van zonnecellen te optimaliseren. Hiervoor is de opstelling uitgerust met diverse analysepoorten en instellingsmogelijkheden om het proces te kunnen volgen en optimaliseren.

Specificaties

  • Load lock einddruk 1 x 10-5 mbar of beter
  • Process Chamber 1 x 10-7 mbar of beter
  • Gasdoseersysteem met behulp van twee maal 6 Mass Flow Controllers
  • Automatische hoogte instelling RF elektrode
  • Automatische drukregeling met throttle klep
  • Industriële Siemens PLC besturing, InTouch Proces Controll Visualisatie, Remote log in voor onderhoud en service.
  • Plasmaboogvoeding bestaat uit twee stuks RF Power 13.56 Mhz 300W met matching unit.